题目

锗是一种重要的半导体材料。工业上用精硫锗矿（主要成分为GeS2 ， 杂质不反应）制取Ge，其工艺流程如图所示：回答下列问题： （1） 开始将精硫锗矿粉碎的目的是。 （2） 高温焙烧精硫锗矿的化学方程式为。 （3） 热还原真空挥发炉内反应的化学方程式为。 （4） 在沉锗过程中，当温度为90℃，pH为14时，加料量（CaCl2/Ge质量比）对沉锗的影响如表所示，选择最佳加料量为（填“10-15”“15-20”或“20-25”），理由是。编号加料量（CaCl2/Ge）母液体积（mL）过滤后液含锗（mg/L）过滤后液pH锗沉淀率（%）110500    76893.6721550020898.1532050021199.784255001.51299.85 （5） 某温度时，沉锗得到的CaGeO3在水中的沉淀溶解平衡曲线如图所示。下列说法错误的是。a．n点与p点对应的Ksp相等b.通过蒸发可以使溶液由q点变到p点c.q点无CaGeO3沉淀生成d.加入Na2GeO3可以使溶液由n点变到m点 （6） CaGeO3与强酸反应可得到H2GeO3。0.1mol•L－1的NaHGeO3溶液pH（填“＞”“=”或“＜”）7，判断理由是（通过计算比较）。（25℃时，H2GeO3的Ka1=1.7×10－9 ， Ka2=1.9×10－13。） 答案： 【1】增大固体接触面积，使反应更充分 【1】GeS2+3O2 高温__ GeO2+2SO2 【1】4NaH2PO2 +8GeO2 高温__ Na4P2O7+H2O+8GeO↑+2H3PO4 【1】20-25【2】当CaCl2/Ge质量比位于20-25时，锗的沉淀率最大 【1】bd 【1】＞【2】NaHGeO3的水解平衡常数Kh=Kw/Ka1=1×10－14/1.7×10－9=1/1.7×10－5＞Ka2=1.9×10－13 ，即NaHGeO3溶液中水解程度大于电离程度，溶液显碱性，故pH＞7

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