题目

[选修3：物质结构与性质] 硅、锗(Ge)及其化合物广泛应用于光电材料领域。回答下列问题： （1） 基态硅原子最外层的电子排布图为，晶体硅和碳化硅熔点较高的是(填化学式)； （2） 硅和卤素单质反应可以得到 ， 的熔沸点如下表： 熔点/K 183.0 203.2 278.6 393.7 沸点/K 187.2 330.8 427.2 560.7 ①0℃时， 、 、 、 呈液态的是(填化学式)，沸点依次升高的原因是，气态 分子的空间构型是； ② 与N-甲基咪唑 反应可以得到 ，其结构如图所示： N-甲基咪唑分子中碳原子的杂化轨道类型为，H、C、N的电负性由大到小的顺序为，1个 中含有个 键； （3） 下图是 、 、 三种元素形成的某化合物的晶胞示意图。 ①已知化合物中 和 的原子个数比为1：4，图中Z表示原子(填元素符号)，该化合物的化学式为； ②已知该晶胞的晶胞参数分别为anm、bnm、cnm， ，则该晶体的密度 (设阿伏加德罗常数的值为 ，用含a、b、c、 的代数式表示)。 答案： 【1】【2】SiC 【1】SiCl4【2】SiX4都是结构相似的分子晶体，相对分子质量依次增大，分子间作用力依次增大【3】正四面体形【4】sp2、sp3【5】N>C>H【6】54 【1】O【2】Mg2GeO4【3】= 740abcNA ×1021

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