题目

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题： （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下： ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式　          　　。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和H2，该反应的氧化剂是             ；H2还原过程中若混O2，可能引起的后果是            。（2）下列有关硅材料的说法正确的是      （填字母）。 A．晶体硅和二氧化硅晶体的结构都类似金刚石，都常用来制造电子部件。 B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承。 C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂为原料制成的，没有固定的熔点。 D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅。 （3）三硅酸镁（2MgO・3SiO2・nH2O）被用来治疗胃溃疡，是因为该物质不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。写出三硅酸镁与胃酸（盐酸）反应的化学方程式：                                                                         答案：（1）①SiHCl3+H2= Si+3HCl    ②H2O，发生爆炸。（2）BC（3）2MgO・3SiO2・NH2O+4HCl2MgCI2+3SiO2+（n+2）H2O

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