题目
光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b (b 中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如下:
已知: a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。
下列说法错误的是（ ）
A . b的结构简式为CH3COCH3
B . c发生消去反应时的产物只有1种
C . d、e均能发生水解反应
D . 反应③为加成聚合反应
答案：B
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