题目

高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下面是高聚物H的合成路线： Ⅱ.反应③属于加聚反应 Ⅲ.D属于高分子化合物，请回答下列问题：(1)反应⑤的条件是_______________；E的分子式为__________________；(2)C中含有的官能团的名称是________________ ；(3)芳香烃M与A的实验式相同，经测定M的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积比为1:1:2:2:2,则M的结构简式为_____________ ；推测M可能发生的反应类型是___________；(写出一种即可)(4)反应⑦的化学方程式为___________________________________________________ ；(5)D和G反应生成H的化学方程式为___________________________________________ ；(6)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有__________种(不考虑立体异构)。 答案：【答案】光照 C7H8O 酯基 加成反应或加聚反应或氧化反应 4 【解析】碳化钙与水反应生成乙炔（A），根据C的结构简式可知B的结构简式为CH2=CH-OOCCH3，所以乙炔和乙酸在一定条件下发生加成反应生成CH2=CH-OOCCH3；有机物C在碱性条件下发生水解生成高分子化合物D，；有机物 X为甲苯，与氯气发生侧链上的取代反应生成（Y）C6H5-CH2Cl，Y在碱性条件下水解生成（E）C6H5-CH2OH，有机物E被氧化为(F )C6H5-CHO，根据信息可知，C6H5-CHO与CH3COOH在一定条件下发生反应生成（G）C6H5-CH=CH2COOH，高分子化合物D与G发生酯化生成高分子化合物H；据以上分析解答。碳化钙与水反应生成乙炔（A），根据C的结构简式可知B的结构简式为CH2=CH-OOCCH3，所以乙炔和乙酸在一定条件下发生加成反应生成CH2=CH-OOCCH3；有机物C在碱性条件下发生水解生成高分子化合物D，；有机物 X为甲苯，与氯气发生侧链上的取代反应生成（Y）C6H5-CH2Cl，Y在碱性条件下水解生成（E）C6H5-CH2OH，有机物E被氧化为(F )C6H5-CHO，根据信息可知，C6H5-CHO与CH3COOH在一定条件下发生反应生成（G）C6H5-CH=CH2COOH，高分子化合物D与G发生酯化生成高分子化合物H； (1)结合以上分析可知， X为甲苯，与氯气发生侧链上的取代反应生成（Y）C6H5-CH2Cl，反应条件为光照；E的结构简式为C6H5-CH2OH，E的分子式为C7H8O；综上所述，本题答案是：光照；C7H8O。(2) 根据流程中C的结构简式可知含有的官能团是酯基；综上所述，本题答案是：酯基。(3) A为乙炔，实验式为CH，I可能是苯、苯乙烯等，又因为I的核磁共振氢谱上有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2，故M为苯乙烯，结构简式为；分子中含有碳碳双键，可以发生加成反应、加聚反应、氧化反应；含有苯基，还能够发生取代反应；M可能发生的反应类型是加成反应或加聚反应或氧化反应；综上所述，本题答案是：；加成反应或加聚反应或氧化反应。(4)综上所述，有机物E苯甲醇被氧化为(F )C6H5-CHO，反应⑦的化学方程式为：；综上所述，本题答案是：。 (5) D和G发生取代反应反应生成H的化学方程式为；综上所述，本题答案是：。(6) G为C6H5-CH=CH2COOH，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有：(邻、间、对3种)，（1种）共4种；综上所述，本题答案是：4。

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