题目

硅单质及其化合物应用范围很广。（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                       ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   。②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是           ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是        。（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝          。  答案：（1）① SiO2＋2CSi＋2CO↑   2H2(g)＋SiCl4(g)=== Si(s)＋4HCl(g)；ΔH＝+240.4 kJ·mol-1   ② H2SiO3（或H4SiO4）和HCl    爆炸     （2）4解析:略 

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