题目

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500 ℃）四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；c．有关物质的物理常数见下表： 物质 SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5 沸点/℃ 57．7 12．8 — 315 — 熔点/℃ -70．0 -107．2 — — — 升华温度/℃ — — 180 300 162 请回答下列问题：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式______________。（2）装置A中g管的作用是______________；装置C中的试剂是____________;装置E中的h 瓶需要冷却的理由是______________。（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是______________（填写元素符号）。（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+→5Fe3++Mn2++4H2O①滴定前是否要滴加指示剂？______（填 “是”或“否”），请说明理由__________。②某同学称取5．000g残留物后，所处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25．00 mL试样溶液，用1．000×10-2mol·L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20．00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________________。  答案： 解析: 

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