题目

工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅。 有关物质的物理常数见下表： 物质 SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 SiHCl3 PCl5 沸点/℃ 57.7 12.8 — 315 33.0 — 熔点/℃ -70.0 -107.2 — — -126.5 — 升华温度/℃ — — 180 300 162 （1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提纯SiHCl3可采用            的方法 （2）实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：            ①装置B中的试剂是           ，装置C需水浴加热，目的是                     。 ②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是                                                        。 答案：（1）蒸馏（1分） （2）① 浓硫酸（1分）， 使SiHCl3气化，与氢气反应（1分） ②SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化（2分）

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